01. Grundlagen des Patent- und Gebrauchsmusterrechts

Das Patent- und Gebrauchsmusterrecht bilden als Ausschließlichkeitsrechte die Grundlage des Schutzes von technischen Lehren und regeln die Rahmenbedingungen, Voraussetzungen und Verfahren des Patent- und Gebrauchsmusterschutzes und deren wirtschaftlicher Verwertung, insbesondere deren Nutzung und Lizenzierung.

Dieser einleitende Bereich gibt einen Überblick über den

1. Schutzzweck des Patent- und Gebrauchsmusterrechts (A), gefolgt von
2. allgemeinen und wiederkehrenden Voraussetzungen der Erteilung und Durchsetzung von Patenten und Gebrauchsmustern, insbesondere den Erteilungsvoraussetzungen, dem Schutzbereich und dessen Verletzung (B bis F) und schließt ab mit
3. prozessualen Besonderheiten (G).